設備*稱：EDI超純水設備

   行業用途：工業清洗

   設備水量：12T（可按照客戶需求定制）

   生產水量：12T/小時

   工作方式：24小時連續工作

   控制方式：全自動控制

   進水溫度：10℃—35℃

   進水水質：自來水  地下水

   出水水質：純水（電導率≤0.1us/cm以內）

   純水效率：65%以上

   額定電壓：380V

   原水泵功率：4.4KW/小時

   高壓泵功率：15KW/小時

光學EDI超純水設備介紹

超純水在光學*域中的重要作用日益突出，超純水水質已成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，光學EDI超純水設備采用當反滲透+EDI模塊技術，前置預處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質，然后運用EDI模塊進一步提升水質，使出水達到光學行業用水要求，超純水設備主要應用在光學*域的以下幾個方面：

1：清洗需用超純水，如果使用其它水中含有氯離子，電容器就會產生漏電。

2：在電子管生產中，電子管陰*需要涂碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發射， 進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用光學EDI超純水設備或電子工業用edi超純水設備生產的超純水。

3：在顯象管和陰*射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制也需用超純水，如果水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變 暗、閃光跳躍；含奇有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品所以要用到光學EDI超純水設備生產出來的水。

4：顯象管熒光屏生產的 12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用超純水。晶顯示器的屏面需有超純水清洗和用超純水配液，如水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量不良品會增多。

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